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1.銅箔の応用分野
電解銅箔は、エレクトロニクス産業の基礎素材の 1 つとして、主にプリント基板 (PCB)、銅張積層板 (CCL) などの製造に使用されます。家電、通信、コンピューティング (3C) 産業で広く使用されています。近年、エレクトロニクス産業の急速な発展と、高密度、軽量、薄さ、短く、小さいという発展特性により、銅箔に対するより高度かつ新しい要求が提起されており、それは主に以下の点で現れています。 (粗さが少ない)、薄い (12 ミクロン未満まで発達)、高い (高い物理的特性、信頼性)、なし (表面外観に欠陥がない)。電解銅箔はより技術レベルの高い銅加工品に属します。


2. 銅箔の製造工程の概要
電解銅箔は銅箔製造会社ごとに仕様や性能が異なりますが、製造工程は基本的に同じです。すなわち、電解銅または電解銅と同純度の廃銅線を原料として硫酸に溶解して硫酸銅水溶液を作り、陰極として金属ローラーを用いる。電解反応により、陰極ローラー表面に金属銅が連続的に電析され、陰極ローラーから連続的に剥離されます。この工程を生箔電解工程といいます。陰極から剥がされた面(光沢面)は積層板やプリント基板の表面に見える面であり、裏面(通称粗面)は一連の表面処理が必要な面であり、プリント基板内の樹脂に接着されます。
3. 電気分解の原理
電気分解中、電解質中のカチオンはカソードに移動し、アノードの電子によって還元されます。陰イオンは陽極に流れて電子を失い、酸化されます。 2 つの電極を硫酸銅溶液に接続し、直流を印加します。このとき、電源の陰極に接続されたプレート上に銅と水素が析出していることがわかる。銅陽極の場合、銅の溶解と酸素の析出が同時に起こります。反応は次のとおりです。
カソード: Cu2+ +2e → 2Cu
2H+ +2e → H2↑
アノード: 4OH- +4e → 2H2O + O2↑
2S042-+2H2O -4e → 2H2S04 + O2↑

アノードから溶解した銅は、電解液中の銅イオンの消費を補充します。陰極表面は、陰極に堆積した銅層を剥がすことができるように特定の方法で処理され、一定の厚さの銅シートが得られます。ある機能を持たせた銅板を銅箔といいます。
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